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　　等離子體清洗在各方面有什么樣的應(yīng)用？下面，低溫等離子模塊廠家來(lái)給大家分享一下。
　　1、硬盤
　　用等離子清洗來(lái)去除由上一步濺鍍工藝留下的殘余物，同時(shí)基材表面經(jīng)過(guò)處理，對(duì)改變基材的潤(rùn)濕性，減小摩擦，很有益處。
　　2、零件清洗
　　在經(jīng)過(guò)機(jī)械加工的零件表面主要?dú)埩粑餅橛皖愇廴?，采用O2等離子體去除會(huì)有用。
　　3、BGA封裝工藝
　　在BGA工藝中，對(duì)表面清潔和處理都是嚴(yán)格的，焊球與基板的連接要求一個(gè)潔凈表面以保障焊接的一致性。等離子體處理它可以保障沒(méi)有痕跡，BGA焊盤要求等離子處理來(lái)保障良好的粘接性能，并且，已有批量和在線式的清洗工藝。
　　4、液晶顯示器生產(chǎn)中的清洗
　　在液晶清洗中的干式清洗，使用的氣體是氧的等離子體，它能除去油性污垢和臟物粒子，因?yàn)檠醯入x子體可將有機(jī)物氧化，形成氣體排出。
　　5、蝕刻工藝
　　某種程度來(lái)講，等離子清洗實(shí)質(zhì)上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。進(jìn)行干式蝕刻工藝的設(shè)備包括反應(yīng)室、電源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反應(yīng)室。氣體被導(dǎo)入并與等離子體進(jìn)行交換。等離子體在工件表面發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)的揮發(fā)性副產(chǎn)物被真空泵抽走。等離子體刻蝕工藝實(shí)際上便是一種反應(yīng)性等離子工藝。